(株)コメットは、コンビナトリアル成膜技術を駆使して新規材料開発をお手伝いする会社会社です。

TEL. 029-869-8620

〒300-2635 つくば市東光台5-9-5

サービス/製品一覧SERVICE & PRODUCTS

サービス一覧

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「コンビナトリアル組成傾斜試料作成」

コンビナトリアル技術を用いた薄膜試料を作成いたします。創業以来、大変ご好評をいただいているユニークなサービスです。

経験豊かな技術スタッフが新機能性材料開発をお手伝いします。
熱電材料・強誘電体・強磁性体・バッテリー電極・相変化メモリ材料・金属間化合物など、あらゆる固体素子に用いられる機能性材料を成膜いたします。

任意組成の単一組成膜、2元および3元の組成傾斜膜が作成できます。

薄膜堆積法として、スパッタ法、PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用いています。


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「コンビナトリアル特性解析」

ご要望により、組成変化に従った種々の多点物理分析をいたします。

左の例では、Si基板上の HfO2, Y2O3, Al2O3 の正三角形の3元コンビナトリアル組成傾斜試料にPt電極を形成して C-V, I-Vの電気的特性を行い、高誘電率層の評価をしたものです。左図の上から、誘電率、フラットバンド電位、リーク電流の組成マッピングを示しています。1試料中の246組成が同時評価されています。

C-V、I-V、半導体特性などなどの電気的特性評価 (室温~400℃)
透過率測定、分光エリプソメトリなどの光学特性評価
マイクロビームXRDを用いた結晶性評価
マイクロビームXRF、XPS、Auger分光などによる組成評価


製品一覧

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6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-6420

使いやすさが特長のコンビナトリアル・スパッタ成膜装置です。旧製品と比べ、2インチ・カソードを6基装備して、あらゆる薄膜材料の合成をスパッタ法で行います。
移動マスク・基板回転機構からなる2元・3元のコンビナトリアル成膜手順を、レシピに従って全自動で実行します。
プロセス・ラインに適合可能な4インチウエハに対応し、Siウエハ上で650℃までの加熱成膜が可能です。

オプションとして、1,000℃までのポストアニーラー、四重極ガス分析器、Si専用表面放射温度計などを装備できます。

CMS-6420のパンフレットはこちらから


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3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置 CMS-3200

6元ののコンビナトリアル・スパッタ成膜装置のプロセス性能をそのままに、3元コンビ装置としてコンパクトにまとめました。6元装置 CMS-6420と比べて、スパッタ・カソードが3基であること、試料基板が2インチであること以外は、プロセス性能、制御能力は同一です。
移動マスク・基板回転機構からなる2元・3元のコンビナトリアル成膜手順を、レシピに従って全自動で実行します。
2インチSiウエハ上で650℃までの加熱コンビ成膜が可能です。

オプションとして、1,000℃までのポストアニーラー、四重極ガス分析器、Si専用表面放射温度計などを装備できるのも同一です。

CMS-3200のパンフレットはこちらから


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移動ロードロックシステム CEX-2420

コンビナトリアル・スパッタ装置 CMS-6420間、あるいは、パスカル社製PLD装置間で、大気暴露なしに成膜試料を超高真空下で移載搬送できます。
L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、試料を常に超高真空下に持ちます。
スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを備え、各試料ホルダーへの試料の移載が可能です。
無停電電源でバックアップされ、30分以上の移動時の無通電可動が可能です。


バナースペース

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